微纳加工需求评审
检查材料、图形、线宽、周期、刻蚀深度、晶圆尺寸、数量与验收方式,减少沟通成本。
把材料、版图、尺寸、公差、测试目标拆成清晰工艺输入。
匹配电子束曝光、DUV、刻蚀、镀膜、清洗和检测组合。
跟踪样品加工、过程问题、SEM 验证和下一轮优化建议。
很多微纳加工项目失败,并不是因为设备不够先进,而是需求、版图、材料、工艺窗口和检测标准没有在一开始对齐。我的个人网站定位是一个项目入口:帮助客户把“想做的样品”整理成加工方能理解、能报价、能排产、能验收的技术需求。
目前方向聚焦半导体微纳加工、光电子芯片工艺、超表面/超透镜样品、MEMS 与深硅刻蚀、电子束曝光和 SEM 表征。
个人网站更适合把你塑造成“懂工艺、懂客户、懂交付”的项目顾问,而不只是展示设备。
检查材料、图形、线宽、周期、刻蚀深度、晶圆尺寸、数量与验收方式,减少沟通成本。
围绕 EBL、DUV、激光直写、RIE/DRIE、IBE、Lift-off、湿法清洗等步骤制定可执行路径。
帮助项目找到适配的加工平台、测试资源和交付方式,避免“大设备小问题”或“小平台扛大需求”。
结合 SEM、尺寸偏差、侧壁形貌、电学/RF 数据,给出下一轮版图或工艺优化建议。
TiO2、SiN、SOI、Ge 等材料体系,关注特征尺寸、深宽比、刻蚀形貌和成像/传感应用目标。
以后可以把小红书、客户问答、案例复盘整理成文章,个人网站会越来越像专业入口。
材料、目标波段、周期、柱径/槽宽、深度、公差、版图格式和 SEM 验收口径。
从最小线宽、面积、成本、周期、拼接误差和后续刻蚀难度综合判断。
重点看尺寸一致性、边缘粗糙度、残胶、塌陷、侧壁角度和底部形貌。
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建议包含:材料、图形尺寸、版图文件、样品尺寸、数量、期望周期、是否需要 SEM/电学/RF 测试。